9 сентябрьдә, җирле вакыт белән, Intel генераль директоры Киссинджер АКШның Огайо шәһәрендә зур масштаблы вафер заводы төзү өчен 20 миллиард доллар инвестицияләячәген хәбәр итте.Бу Intel'ның IDM 2.0 стратегиясенең бер өлеше.Бөтен инвестиция планы 100 миллиард долларга кадәр.Яңа завод 2025-нче елда массакүләм җитештерелер дип көтелә. Ул вакытта "1,8нм" процессы Intelны ярымүткәргеч лидер позициясенә кайтарачак.
Узган елның февралендә Intel генераль директоры булганнан бирле, Киссинджер АКШта һәм бөтен дөньяда заводлар төзелешен көчәйтте, шуның ким дигәндә 40 миллиард АКШ доллары АКШка инвестицияләнгән.Узган ел ул Аризонага 20 миллиард АКШ доллары инвестиция салды.Бу юлы ул Огайога 20 миллиард АКШ доллары инвестицияләде, һәм шулай ук Нью-Мексикада яңа мөһерләү һәм сынау заводы төзеде.
Intel ике чип заводы төзү өчен тагын 20 миллиард доллар инвестицияли."1.8нм" технологиясе патшасы кайта
Intel фабрикасы шулай ук АКШта яңа төзелгән зур ярымүткәргеч чип заводы, 52,8 миллиард АКШ доллары чип субсидиясе проекты кабул ителгәннән соң.Шуңа күрә, АКШ президенты старт алу тантанасында, шулай ук Огайо губернаторы һәм җирле бүлекләрнең башка өлкән түрәләрендә катнашты.
Intel ике чип заводы төзү өчен тагын 20 миллиард доллар инвестицияли."1.8нм" технологиясе патшасы кайта
Intel чип җитештерү базасы ике заводтан торачак, алар сигез заводны сыйдыра ала һәм экологик ярдәм системаларын тәэмин итә ала.Ул 1000 гектарга якын мәйданны, ягъни 4 квадрат километрны били.Ул 3000 югары түләүле эш урыны, 7000 төзелеш эше һәм дистәләрчә мең тәэмин итү челтәре хезмәттәшлеге булдырачак.
Бу ике вафат завод 2025-нче елда массада җитештерелер дип көтелә. Intel заводның процесс дәрәҗәсен махсус әйтмәде, ләкин Intel моңа кадәр 5 буын үзәк эшкәрткеч җайланма процессын 4 ел эчендә үзләштерәчәген һәм 20а массасын җитештерәчәген әйтте. 2024-нче елда 18а ике буын процессы. Шуңа күрә мондагы завод ул вакытта 18а процессын да җитештерергә тиеш.
20а һәм 18а - дөньяда EMI дәрәҗәсенә җиткән беренче чип процесслары, дусларның 2нм һәм 1.8нм процессларына тиң.Алар шулай ук ике Intel кара технология технологиясен, FET тасмасы һәм powervia җибәрәчәкләр.
Intel сүзләре буенча, тасма - Intel транзисторлар тирәсендә капка кертү.Бу компания 2011-нче елда FinFETны эшләтеп җибәргәннән бирле беренче яңа транзистор архитектурасы булачак. Бу технология транзисторның күчү тизлеген тизләтә һәм күп фин структурасы кебек йөртү агымына ирешә, ләкин азрак урын ала.
Powervia - Intelның уникаль һәм тармактагы беренче арткы электр тапшыру челтәре, ул электр энергиясен тәэмин итү ихтыяҗын бетереп сигнал тапшыруны оптимальләштерә һәм
Пост вакыты: 12-2022 сентябрь